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1982年,朱一心从浙江大学无线电系物理电子学本科毕业。随后进入电子工业部第四十八所,主要从事聚焦电子、离子束以及液态金属离子源的研究。其中,镓和金硅合金液态金属离子源获得了1985年电子工业部科技进步一等奖,朱一心成为电子工业部有史以来获得这个荣誉的最年轻的科学家。 1986年,朱一心又回到母校攻读硕士学位。毕业分配到浙江大学劳动服务公司,1993年,朱一心选择了留职停薪,加入创业大军。1997年1月,在导师的推荐下,朱一心回到母校任教于无线电系。2002年,朱一心离开浙大,带着11岁的女儿远赴美国加州。2010年回国,现任浙江好创生物技术董事长。 杭州市第一批全球引才“521”计划人选(2011年);浙江省第五批(2012年);美国第三代电喷雾离子源发明者。
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